RAS PhysicsЖурнал экспериментальной и теоретической физики Journal of Experimental and Theoretical Physics

  • ISSN (Print) 0044-4510
  • ISSN (Online) 3034-641X

ВЛИЯНИЕ ТОКОВ УТЕЧКИ НА РЕЗИСТИВНОЕ ПЕРЕКЛЮЧЕНИЕ И ПРОЦЕДУРУ ФОРМОВКИ МЕМРИСТИВНЫХ ОКРАМ-УСТРОЙСТВ

PII
S3034641X25090161-1
DOI
10.7868/S3034641X25090161
Publication type
Article
Status
Published
Authors
Volume/ Edition
Volume 168 / Issue number 3(9)
Pages
440-448
Abstract
Исследовано влияние физических процессов, связанных с поверхностными токами утечки, на электрофизические свойства и процедуру формовки устройств на базе многоуровневых мемристивных композиций AlO/TiO в конденсаторной структуре, колланарной линии и BEOL-интегрированных. Показано, что токи поверхностной утечки в мемристивных устройствах во многом определяются способом их интеграции и могут изменять вид вольт-амперных характеристик для высокоомных резистивных состояний. Более того, наличие токов утечки существенно увеличивает напряжение формовки мемристивных устройств.
Keywords
Date of publication
15.09.2025
Year of publication
2025
Number of purchasers
0
Views
37

References

  1. 1. L. Ye, Z. Gao, J. Fu et al., Front. Phys. 10, 839243 (2022).
  2. 2. P. Yao, H. Wu, B. Gao et al., Nature 577, 641 (2020).
  3. 3. F. Kiani, J. Yin, Z. Wang et al., Sci. Adv. 7, eabj4801 (2021).
  4. 4. Y. Zhong, J. Tang, X. Li et al., Nat. Electron. 5, 672 (2022).
  5. 5. C. Li, M. Hu, Y. Li et al., Nat. Electron. 1, 52 (2018).
  6. 6. R. Wang, T. Shi, X. Zhang et al., Nat. Commun. 13, 2289 (2022).
  7. 7. C. Li, D. Belkin, Y. Li et al., Nat. Commun. 9, 2385 (2018).
  8. 8. J. Rupp, D. Ielmini, and I. Valov, Resistive Switching: Oxide Materials, Mechanisms, Devices and Operations, Springer, Cham (2022), p. 383.
  9. 9. W. Haensch, A. Raghunathan, K. Roy et al., Adv. Mater. 35, 2204944 (2023).
  10. 10. M. Onen, T. Gokmen, T. K. Todorov et al., Front. Artif. Intell. 5, 891624 (2022).
  11. 11. U. B¨ottger, M. von Witzleben, V. Havel et al., Sci. Rep. 10, 16391 (2020).
  12. 12. M.L¨ubben, S.Wiefels, R.Waser et al., Adv. Electron. Mater. 4, 1700458 (2018).
QR
Translate

Индексирование

Scopus

Scopus

Scopus

Crossref

Scopus

Higher Attestation Commission

At the Ministry of Education and Science of the Russian Federation

Scopus

Scientific Electronic Library