ОФНЖурнал экспериментальной и теоретической физики Journal of Experimental and Theoretical Physics

  • ISSN (Print) 0044-4510
  • ISSN (Online) 3034-641X

ВЛИЯНИЕ ТОКОВ УТЕЧКИ НА РЕЗИСТИВНОЕ ПЕРЕКЛЮЧЕНИЕ И ПРОЦЕДУРУ ФОРМОВКИ МЕМРИСТИВНЫХ ОКРАМ-УСТРОЙСТВ

Код статьи
S3034641X25090161-1
DOI
10.7868/S3034641X25090161
Тип публикации
Статья
Статус публикации
Опубликовано
Авторы
Том/ Выпуск
Том 168 / Номер выпуска 3
Страницы
440-448
Аннотация
Исследовано влияние физических процессов, связанных с поверхностными токами утечки, на электрофизические свойства и процедуру формовки устройств на базе многоуровневых мемристивных композиций AlO/TiO в конденсаторной структуре, колланарной линии и BEOL-интегрированных. Показано, что токи поверхностной утечки в мемристивных устройствах во многом определяются способом их интеграции и могут изменять вид вольт-амперных характеристик для высокоомных резистивных состояний. Более того, наличие токов утечки существенно увеличивает напряжение формовки мемристивных устройств.
Ключевые слова
Дата публикации
15.09.2025
Год выхода
2025
Всего подписок
0
Всего просмотров
39

Библиография

  1. 1. L. Ye, Z. Gao, J. Fu et al., Front. Phys. 10, 839243 (2022).
  2. 2. P. Yao, H. Wu, B. Gao et al., Nature 577, 641 (2020).
  3. 3. F. Kiani, J. Yin, Z. Wang et al., Sci. Adv. 7, eabj4801 (2021).
  4. 4. Y. Zhong, J. Tang, X. Li et al., Nat. Electron. 5, 672 (2022).
  5. 5. C. Li, M. Hu, Y. Li et al., Nat. Electron. 1, 52 (2018).
  6. 6. R. Wang, T. Shi, X. Zhang et al., Nat. Commun. 13, 2289 (2022).
  7. 7. C. Li, D. Belkin, Y. Li et al., Nat. Commun. 9, 2385 (2018).
  8. 8. J. Rupp, D. Ielmini, and I. Valov, Resistive Switching: Oxide Materials, Mechanisms, Devices and Operations, Springer, Cham (2022), p. 383.
  9. 9. W. Haensch, A. Raghunathan, K. Roy et al., Adv. Mater. 35, 2204944 (2023).
  10. 10. M. Onen, T. Gokmen, T. K. Todorov et al., Front. Artif. Intell. 5, 891624 (2022).
  11. 11. U. B¨ottger, M. von Witzleben, V. Havel et al., Sci. Rep. 10, 16391 (2020).
  12. 12. M.L¨ubben, S.Wiefels, R.Waser et al., Adv. Electron. Mater. 4, 1700458 (2018).
QR
Перевести

Индексирование

Scopus

Scopus

Scopus

Crossref

Scopus

Высшая аттестационная комиссия

При Министерстве образования и науки Российской Федерации

Scopus

Научная электронная библиотека